四氟化碳（CF4）又称四氟甲烷，其高纯气及其配高纯氧气的混合气，。是目前为电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。

1：烷烃直接氟化法。该方法的优点是工艺成熟、操作简单、原料易得。但也存在反应不易控制，产物复杂，收率低等缺点，最终可能被气体工艺所淘汰。

2：氟氯甲烷氟化法。很早就有用氟氯甲烷与HF进行气相反应制备CF4的报道，但对氟氯甲烷氟化较相应的甲烷更为困难，反应需在催化剂存在下进行。

催化剂同使用含Cr化合物。此法的优点是工艺简单，操作安全，多数情况下不需要昂贵的F2，设备投资低。但随着CFC8和氢氟氯烃(HCFC8)的逐步禁用，

该工艺的原料来源受到限制而受影响使用。

3：氢氟甲烷氟化法。氢氟甲烷氟化法是一种适合工业化推广的生产方法，具有工艺简单、不需使用催化剂、四氟化碳收率和纯度高等优点。

但目前作为原料的氢氟甲烷价格相对较高，限制了工业化装置的规模。

4：氟碳直接合成法。四氟化碳最早是通过氟碳直接反应制得的，改方法经过不断的发展与完善，以成为工业上制备全氟烷的最主要方法之一。